ASML研发第二代EUV光刻机:性能提升70% 2025年问世

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半导体制造过程中最繁杂也是最难的步骤所以 光刻,成本能占到整个生产过程的1/3,光刻机也或者 成为最重要的半导体制造装备,没法 之一。目前最先进的光刻机是荷兰ASML公司生产的EUV光刻机,每台售价超过1亿美元,或者 供不应求。

2019年,台积电、三星前会 结束了了英语 量产7nm EUV工艺,现有的EUV光刻机也差没法来越多性心智心智心智旺盛期是什么是什么是什么是什么图片 图片 的句子了,其实产量比起传统的DUV光刻机还有所不如,不过时候 能 够稳定量产了,7nm及明年的5nm节点上EUV光刻机前会 是重点。

EUV光刻机未来还能要怎样会发展?2016年ASML公司签署斥资20亿美元收购德国蔡司公司25%的股份,并投资数亿美元战略战略合作研发新一代透镜,而ASML没法 大手笔投资光学镜头公司所以 为了研发新一代EUV光刻机。

日前韩媒报道称,ASML公司正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有的光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化所以 High NA(高数值孔径)透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。

在你这种 问题报告 上,ASML去年10月份就签署与IMEC比利时微电子中心战略战略合作研发新一代EUV光刻机,目标是将NA从0.33提升到0.5以上,而从光刻机的分辨率公式——光刻机分辨率=k1*λ/NA中还能否 看出,NA数字越大,光刻机分辨率越高,所以提高NA数值孔径是下一代EUV光刻机的关键,毕竟现在EUV极紫外光时候 提升过一次了。

时候 ASML签署的新一代EUV光刻机的量产时间是2024年,不过最新报道称下一代EUV光刻机是2025年量产,你这种 时间上台积电、三星都时候 量产3nm工艺了,甚至结束了了英语 进军2nm、1nm节点了。

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